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张金娅

作品数：7 被引量：33H指数：3
供职机构：上海交通大学更多>>
发文基金：国家高技术研究发展计划国家自然科学基金更多>>
相关领域：电子电信一般工业技术电气工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 5篇期刊文章
  • 2篇会议论文

领域

  • 6篇电子电信
  • 1篇电气工程
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 5篇UV-LIG...
  • 4篇微结构
  • 4篇光刻
  • 4篇SU-8胶
  • 3篇曝光量
  • 3篇光刻胶
  • 3篇SU-8光刻...
  • 3篇UV-LIG...
  • 2篇高深宽比
  • 2篇SU-8
  • 1篇倒角
  • 1篇压电
  • 1篇压电微马达
  • 1篇微马达
  • 1篇光刻工艺
  • 1篇非接触
  • 1篇PDMS
  • 1篇REMOVA...
  • 1篇HIGH-A...
  • 1篇超厚

机构

  • 7篇上海交通大学

作者

  • 7篇张金娅
  • 7篇陈迪
  • 6篇刘景全
  • 6篇朱军
  • 4篇张晔
  • 2篇李建华
  • 2篇杨斌
  • 1篇倪智萍
  • 1篇蔡炳初
  • 1篇周广华
  • 1篇方华斌

传媒

  • 2篇微细加工技术
  • 1篇Journa...
  • 1篇中国机械工程
  • 1篇功能材料与器...
  • 1篇中国微米纳米...
  • 1篇中国微米、纳...

年份

  • 7篇2005
共 7 条 记 录，以下是 1-7
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排序方式：
基于SU-8胶转子的非接触压电微马达被引量：3
2005年
研制了一种非接触压电微马达,通过阻抗分析仪对定子进行扫频测试,确定其共振频率,并且详细介绍了SU 8胶转子制作的工艺流程。利用转速仪比较不同形状和尺寸的转子在调频和调压下的转速,从而确立压电微马达的最优转子。转子半径为6mm,叶片宽度为6mm的三叶片转子转速最高为3569r/min。转子的启动电压和最高电压分别为8V和24V。
杨斌刘景全周广华陈迪张金娅蔡炳初
关键词：非接触压电微马达
SU-8胶光刻工艺参数优化研究被引量：14
2005年
对基于SU-8胶的UV-LIGA技术进行了工艺优化,研究了光源波长和曝光时间对SU-8胶成型的影响。结果表明,光刻胶表面线宽变化随曝光时间增加先减少后增加,有一个极小值;侧壁角度先增加后减少,有一个极大值。通过优化光源波长、曝光时间以及显影时间三个主要工艺参数,可以获得侧壁角度为90.64°正角的300μm厚光刻胶微结构和侧壁角度为89.98°近似垂直的500μm厚光刻胶微结构。
张晔陈迪张金娅倪智萍朱军刘景全
关键词：UV-LIGA技术SU-8胶高深宽比微结构
UV-LIGA中光源波长和曝光量对SU-8光刻胶微结构的影响
基于UV-LIGA技术采用SU-8光刻胶制备了高深宽比微结构,最高深宽比达20:1。研究了改变光源的波长和曝光量对SU-8光刻胶成形的影响,揭示了在一定范围内线宽随曝光量非线性变化的规律。从聚合度和聚合所得高分子结构两方...
张晔陈迪张金娅朱军刘景全
关键词：UV-LIGA技术SU-8胶
文献传递
超厚SU-8负胶高深宽比结构及工艺研究被引量：21
2005年
采用新型SU-8光刻胶在UV-LIGA技术基础上制备了各种高深宽比MEMS微结构,研究了热处理和曝光两个重要因素对高深宽比微结构的影响,解决了微结构的开裂和倒塌等问题;优化了SU-8胶工艺,从而获得了最大深宽比为27:1的微结构。
张金娅陈迪朱军李建华方华斌杨斌
关键词：UV-LIGA技术SU-8胶
UV-LIGA中光源波长和曝光量对SU-8光刻胶微结构的影响
本文基于UV-LIGA技术采用SU-8光刻胶制备了高深宽比微结构,最高深宽比达20:1.研究了改变光源的波长和曝光量对SU-8光刻胶成形的影响,揭示了在一定范围内线宽随曝光量非线性变化的规律.从聚合度和聚合所得高分子结构...
张晔陈迪张金娅朱军刘景全
关键词：UV-LIGA技术SU-8光刻胶倒角曝光量
文献传递
UV-LIGA中光源波长和曝光量对SU-8光刻胶微结构的影响
2005年
基于UV-LIGA技术采用SU-8光刻胶制备了高深宽比微结构,最高深宽比达20:1.研究了改变光源的波长和曝光量对SU-8光刻胶成形的影响,揭示了在一定范围内线宽随曝光量非线性变化的规律.从聚合度和聚合所得高分子结构两方面对该变化规律给出了合理的解释,并基于该变化规律提出了一种新的消除微结构倒角的方法.
张晔陈迪张金娅朱军刘景全
关键词：UV-LIGA技术SU-8胶
An Alternative Method for SU-8 Removal Using PDMS Technique
2005年
An alternative method for SU-8 removal is proposed.Instead of directly using SU-8 microstructure as the electroplating mold,a polydimethysiloxane (PDMS) replica is employed.The metallic micromold insert obtained through this method can be easily peeled off from the PDMS replica,meanwhile with high resolution and smooth surfaces.
李建华陈迪张金娅刘景全朱军
关键词：ELECTROPLATINGPDMS
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