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李世直

作品数：43 被引量：95H指数：7
供职机构：青岛科技大学更多>>
发文基金：国家自然科学基金山东省自然科学基金更多>>
相关领域：金属学及工艺理学一般工业技术电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 37篇期刊文章
  • 3篇会议论文
  • 2篇专利
  • 1篇科技成果

领域

  • 22篇金属学及工艺
  • 11篇理学
  • 7篇一般工业技术
  • 5篇电子电信
  • 4篇化学工程
  • 1篇机械工程

主题

  • 15篇氮化
  • 15篇PCVD
  • 14篇氮化钛
  • 14篇化学气相
  • 13篇化学气相沉积
  • 12篇气相沉积
  • 10篇等离子体
  • 8篇涂层
  • 5篇等离子体化学...
  • 5篇金属
  • 5篇TIN
  • 4篇碳氮化钛
  • 4篇内耗
  • 4篇金属表面
  • 4篇高速钢
  • 4篇PCV
  • 4篇TI
  • 3篇硬膜
  • 3篇钛
  • 2篇异丙基

机构

  • 31篇青岛化工学院
  • 12篇青岛科技大学
  • 4篇中国科学院
  • 2篇西安交通大学
  • 2篇洛阳轴承研究...

作者

  • 43篇李世直
  • 23篇彭红瑞
  • 21篇赵程
  • 16篇石玉龙
  • 12篇谢雁
  • 4篇谢广文
  • 2篇何家文
  • 2篇李建华
  • 2篇任志华
  • 2篇方前锋
  • 2篇曲承林
  • 2篇李朝升
  • 1篇刘元生
  • 1篇徐翔
  • 1篇陈瑾
  • 1篇陶冶
  • 1篇王先平
  • 1篇郭祥才
  • 1篇徐可为
  • 1篇谢雁

传媒

  • 5篇真空科学与技...
  • 5篇青岛化工学院...
  • 4篇表面技术
  • 3篇金属热处理
  • 3篇真空
  • 3篇真空电子技术
  • 3篇青岛科技大学...
  • 2篇金属学报
  • 2篇机械工程材料
  • 2篇微细加工技术
  • 2篇表面工程
  • 1篇物理学进展
  • 1篇功能材料
  • 1篇真空科学与技...
  • 1篇中国声学学会...
  • 1篇首届全国耐蚀...

年份

  • 2篇2006
  • 1篇2003
  • 2篇2002
  • 3篇2000
  • 1篇1999
  • 8篇1998
  • 6篇1997
  • 5篇1996
  • 2篇1995
  • 3篇1993
  • 4篇1992
  • 1篇1990
  • 4篇1989
  • 1篇1988
共 43 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
用PCVD法制备(TiAl)N膜的研究
1990年
本文介绍了在PCVD设备中用固态AlCl_3制备(TiAl)N膜。结果表明,(TiAl)N膜的含Al量与AlCl_3的蒸发温度成正比,但膜内Cl含量却无明显变化。(TiAl)N膜保持了TiN膜的面心立方晶体结构,但其晶格常数变小,织构变弱,组织略有细化。(TiAl)N膜的显微硬度略高于或等于TiN膜的硬度,但抗高温氧化性有较大幅度提高。
赵程彭红瑞李世直
振簧法和扭摆法测量薄膜的内耗和弹性模量
1 引言薄膜材料因其在电子器件、显示、传感、光学器件、防腐耐磨部件等方面的应用前景而倍受关注。精确测量薄膜的力学性质,如弹性模量,在很多情况下具有重要的意义。对不易和不宜从
方前锋李朝升李世直Stan Veprek
关键词：弹性模量
文献传递
碳化钛膜的制备和应用研究被引量：11
1998年
通过正交试验对PCVD-TiC膜的镀膜工艺参数进行了优化,得到了可制备高硬度、高结合牢度和高沉积速率TiC膜的工艺参数.试验表明,在用PCVD法沉积TiC膜的过程中,TiCl_4和CH_4的流量是重要的控制参数.过多的TiCl_4和CH_4都会给TiC膜带来不利的影响.氩气虽然可以提高TiC膜的沉积速率,但同时也降低了膜-基之间的结合牢度.在冷挤压模具上应用的结果表明,镀有优化后的PCVD-TiC膜的模具比镀TiN膜的模具可提高2～4倍,与不镀膜的模具相比可提高寿命10倍以上.
赵程彭红瑞李世直
关键词：化学气相沉积等离子体涂层
PCVD-TiC膜的工艺及其应用研究被引量：2
1997年
通过正交试验对ＰＣＶＤ－ＴｉＣ膜的镀膜工艺参数进行了优化，得到了制备高硬度、高结合牢度和高沉积速率ＴｉＣ膜的工艺参数。试验表明，在用ＰＣＶＤ法沉积ＴｉＣ膜的过程中，ＴｉＣｌ４和ＣＨ４的流量是重要的控制参数。过多的ＴｉＣｌ４和ＣＨ４都会给ＴｉＣ膜带来不利的影响。氩气虽然可以提高ＴｉＣ膜的沉积速率，但同时也降低了膜与基之间的结合牢度。在冷挤压模具上应用的结果表明，镀有优化后的ＰＣＶＤ－ＴｉＣ膜的模具比镀ＴｉＮ膜的模具可提高寿命２～４倍。与不镀膜的模具相比，可提高寿命１０倍以上。
赵程彭红瑞李世直张学农
关键词：化学气相沉积镀膜碳化钛
PCVD硬质涂层反向处理的初步研究
涂镀后再进行热处理的方法不但可以提高基体材料的硬度，而且还改善了涂层的质量。试验结果表明，热处理后的涂层与基体结合良好，涂层的显微硬度略有提高。显微分析也表明，通过热处理可以较大幅度地提高涂层结晶程度和致密度，减少涂层内...
彭红瑞石玉龙谢雁李世直赵程
关键词：气相沉积金属表面强化等离子体化学气相沉积硬质涂层
射频等离子体化学气相沉积择优取向膜的研究被引量：3
1996年
用Ｘ－衍射的方法分析影响射频等离子体沉积择优取向的ＴＩＮ膜，取向的原因。
谢雁李世直
关键词：射频等离子体
划痕试验法测定TiN薄膜的粘着力
1989年
本文用划痕试验法研究了直流等离子体化学气相沉积(PCVD)镀膜工艺在高速钢、碳钢上沉积的 TiN 膜的剥落方式,测量了膜层被划干净时的临界载荷,并和 PVD、CVD 工艺在高速钢、硬质合金钢上镀的 TiN 膜作了比较,结果表明:PCVD 法较 PVD 法镀的 TiN 膜的粘着力强,达到了 CVD 法镀的 TiN膜的粘着力。
郭祥才姜乐周袁有臣赵程石玉龙李世直
关键词：临界载荷粘着力
纳米复合超硬薄膜中与界面有关的弛豫现象
2006年
利用内耗技术研究了TiSiN系列纳米复合超硬薄膜的结构弛豫和硬化机理。当共振频率大约在100Hz时在230～280℃范围内观察到一个弛豫型的内耗峰。计算出激活能为0．7～1．0eV，弛豫时间指数前因子为10^-10～10^-12秒。对比一系列样品。发现硬度越高内耗峰越低，在硬度高于50GPa的薄膜中没有内耗峰。内耗峰随退火温度升高而不断降低，直至600～750℃退火时消失，并且杨氏模量开始增加，这跟样品退火后硬度增长是一致的。结果表明内耗峰来源于样品中界面的弛豫过程。
方前锋刘庆李朝升李世直Veprek S.
关键词：超硬薄膜内耗
辅助外加热方式直流等离子体化学气相沉积TiN的研究
1997年
1 引 言 单纯靠离子轰击加热的直流等离子体化学沉积 TiN在刀具、刃具及各种耐磨工件上的应用已取得良 好的结果,就其工艺而言,由于影响离子轰击的因素 很多造成工艺参数控制复杂,重复性差,温度不均匀等缺点。90年代起本所开始采用了辅助外加热方式沉积技术,改变了单纯依靠离子轰击加热而带来了弊端。将反应时等离子体放电强度与放电工件温度分离,从而提高了工艺的稳定性。
谢雁赵程李世直
关键词：氮化钛化学气相沉积喷镀
镀层对模具材料热疲劳性能的影响被引量：7
1993年
研究了3Cr2W8V钢基体上的气相沉积TiN、Ti(C,N)和化学镀Ni-P等膜基体系的热疲劳性能,并与40CrNiMo钢上沉积Ti(C,N)对比,着重探讨热应力和高温氧化这两个因素在热作模具材料热疲劳中的作用。气相沉积层抗氧化性能好且有一定的结合牢度,可明显改善基体的热疲劳抗力。Ni-P镀层多在热应力下开裂失去保护作用,不能改善热疲劳性能。结果表明:热作模具的失效中氧化和热应力均可成为主导因素,并随着条件而发生转化。
李文梅陶冶何家文李世直赵程
关键词：热疲劳镀层
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