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文献类型

  • 3篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 2篇化学工程
  • 1篇电子电信
  • 1篇理学

主题

  • 2篇电阻率
  • 2篇溅射
  • 2篇磁控
  • 2篇磁控溅射
  • 1篇电镀
  • 1篇镀层
  • 1篇镀合金
  • 1篇氧化铝
  • 1篇氧化锌
  • 1篇陶瓷
  • 1篇陶瓷靶材
  • 1篇透过率
  • 1篇透射
  • 1篇透射率
  • 1篇溅射沉积
  • 1篇固溶
  • 1篇固溶体
  • 1篇合金
  • 1篇靶材
  • 1篇ZAO薄膜

机构

  • 4篇清华大学

作者

  • 4篇庄大明
  • 4篇梁展鸿
  • 3篇张弓
  • 2篇刘家浚
  • 2篇侯亚奇
  • 2篇吴敏生
  • 1篇付恩刚
  • 1篇方玲

传媒

  • 1篇电镀与环保
  • 1篇真空科学与技...
  • 1篇真空科学与技...
  • 1篇2000年中...

年份

  • 1篇2008
  • 1篇2003
  • 1篇2002
  • 1篇2000
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
电镀Ni-Fe-Co合金工艺的研究被引量:4
2002年
对Ni Fe Co合金镀液配方进行优化 ,研究了电镀工艺参数对镀层性能的影响 ,并获得了具有良好硬度、表面光亮度以及耐蚀性等综合性能的镀层的最佳工艺。试验结果表明 :Ni Fe Co合金镀层在经过 15 0°C、30 0°C回火处理后 。
梁展鸿侯亚奇庄大明张弓刘家浚吴敏生
关键词:镀层电镀镀合金
氧化锌铝(ZAO)陶瓷靶材制备及其薄膜性能被引量:9
2008年
溶胶-凝胶方法制备的ZnO和Al2O3混合粉末经冷压预成型加真空低压烧结,制备了高致密度(相对密度99%)、低成本的ZAO陶瓷靶材。研究了ZAO靶材与无氧铜的粘接性能。用中频交流磁控溅射ZAO靶材的工艺制备了ZAO薄膜。利用SEM和XRD分析测试了陶瓷靶材断口形貌以及靶材和薄膜的结构。试验结果表明:制得的ZAO靶材具有良好的粘接性和溅射性能,内部组织致密,靶材中有明显的ZnAl2O4相。在优化沉积工艺条件下,制备的ZAO薄膜方块电阻为35Ω,电阻率可达3.84×10-4Ω.cm,可见光透过率(λ=550 nm)可达91.1%。沉积态的ZAO薄膜具有很好的结晶性,并呈现(002)择优取向。ZAO薄膜有明显的紫外吸收限,带隙Eg约为3.76 eV。ZAO靶材的工业化磁控镀膜试验也取得了较好的结果。
杨伟方梁展鸿侯亚奇庄大明张弓
关键词:陶瓷靶材磁控溅射电阻率透过率
Ni-Fe-Co合金镀层工艺参数的优化以及性能的研究
本文对Ni-Fe-Co合金电镀液配方进行优化,研究了在一些电镀工艺因素对电镀工艺性能和镀层的影响,并得到了制备具有镀层硬度、镀层表面光亮度以及镀层耐磨性较好综合性能的镀层的优化工艺参数。试验结果表明:Ni-Fe-Co合金...
梁展鸿庄大明刘家浚
关键词:固溶体
文献传递
基体温度对磁控溅射沉积ZAO薄膜性能的影响被引量:12
2003年
利用中频交流磁控溅射方法 ,采用氧化锌铝陶瓷靶材 [w(ZnO) =98%、w(Al2 O3 ) =2 % ]制备了ZAO(ZnO∶Al)薄膜 ,观察了基体温度对ZAO薄膜的晶体结构、电学和光学性能的影响 ,采用X射线衍射仪对薄膜的结构进行了分析 ,采用光学分度计和电阻测试仪测量了薄膜的光学、电学特性 ,采用霍尔测试仪测量了薄膜的载流子浓度和霍尔迁移率。结果表明 :沉积薄膜时的基体温度对薄膜的结构、结晶状况、可见光透射率以及导电性有较大的影响。当基体温度为 2 5 0℃ ,Ar分压为 0 8Pa时 ,薄膜的最低电阻率为 4 6× 10 -4Ω·cm ,方块电阻为 35Ω时 ,可见光 (λ =5 5 0nm)透射率高达 92 0 %。
付恩刚庄大明张弓方玲梁展鸿吴敏生杨伟方
关键词:磁控溅射沉积氧化锌氧化铝电阻率透射率
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