王维洁
- 作品数：17 被引量：19H指数：3
- 供职机构：兰州大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金甘肃省自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学一般工业技术电子电信金属学及工艺更多>>
- 45^#碳钢激光相变硬化层磨损特性的研究被引量：2
- 1991年
- 本文在相同条件下对激光相变硬化处理、淬火-回火及未经处理的45^#碳钢的磨损特性进行了对比试验研究。结果表明，激光相变硬化处理明显地提高了材料表面的抗粘着和抗擦伤能力，因而可以使其在一定负荷和往复速度下的耐磨性能提高一个数量级。往复速度(频率)、负荷对激光相变硬化层和淬火-回火试样之磨损率的影响不同：淬火-回火试样的磨损率随着负荷的增大而迅速增大，但相变硬化层在负荷低于294N时的磨损率增加十分缓慢，只有当负荷超过294N之后才迅速增大；淖火-回火试样的磨损率是随往复频率的增大而迅速降低，而相变硬化层的磨损率随着往复频率的增大却是先上升而后下降，但其量值的变化较小，当往复频率高于每分钟500次时，二者的磨损率基本相同。
- 杨德华张绪寿王维洁
- 关键词：碳钢激光相变硬化磨损硬化层淬火回火
- 微重力下的材料制备研究
- 1992年
- 简略地回顾了在微重力条件下制备材料的历史,介绍了在微重力下进行半导体晶体生长、新型金属材料及金属/陶瓷复合材料合成等方面的一些工作,并就各领域的发展现状和前景做了评述。
- 王维洁王天民
- 关键词：微重力
- 110keVC^+入单晶Ta的研究被引量：1
- 1997年
- 用能量为１１０ｋｅＶ、剂量为３×１０１７ｉｏｎｓ／ｃｍ２的Ｃ＋对单晶Ｔａ进行了注入，分析了注入层的成分分布及其结构，考察了注入前后表面层摩擦磨损性能的变化及其特征。结果表明，Ｃ＋注入层含有ｈｃｐＴａ２Ｃ及ｂｃｃＴａ（Ｃ）相，其强化效应造成了注入层硬度、耐磨性的提高和摩擦系数的下降；样品表面与淬火态ＧＣｒ１５钢球间的磨损机制也由未注入时的粘着磨损转化为注入后轻微的磨粒磨损。
- 王天民王学军王维洁史绩寇昕莉
- 关键词：离子注入磨损单晶钽碳离子
- 类金刚石碳膜的制备及环境因素对其结构和性能的影响
- 王维洁
- 关键词：金刚石膜
- 类金刚石碳膜在各种后处理条件下稳定行为的研究被引量：3
- 1992年
- 本文介绍了类金刚石碳膜的结构和性能在高能离子束辐照、真空热退火及脉冲激光辐照等后处理条件下的变化特征,并就该膜在各种处理条件下的相变机制研究现状进行了评述。
- 王维洁陈智颖王天民
- 关键词：类金刚石碳膜
- 用高能H^+束辐照类金刚石碳膜的研究被引量：3
- 1992年
- 用能量(112,89keV)和剂量(1×10^(17),5×10^(16)个/cm^2)配比不同的H^+束对双离子束溅射淀积的类金刚石碳(DLC)膜进行辐照,用Raman光谱、红外透射光谱和膜层电阻率测量、粘着力测定等多种手段对辐照前后的DLC膜进行,表征和分析,结果表明,高能H^+束辐照效应跟高能重离子辐照效应是不同的,H^+束辐照使膜层sp^3C—H键相对减少,sp^2C—H键相对增多;sp^3C—C和sp^2C—C键组分降低,但sp^3C—C键和sp^2C—C键的相对比值增高,这导致被辐照膜层在某种程度上保持甚至超过了原膜的红外透射性及电阻性能,认为,通过系统的实验,有可能用高能H^+束辐照DLC膜以改善其光电行为。
- 王天民王维洁韩培刚黄良甫罗崇泰
- 关键词：DLC离子束氢离子
- 双束溅射淀积DLC膜的结构表征和性能分析
- 1992年
- 用双离子束溅射淀积法,在轰击源含不同 CH_4流量比的条件下,于玻璃和 Si 基片上淀积了DLC 薄膜。用多种手段对所制备的膜进行了结构表征和性能分析。结果表明,轰击源中 CH_4流量比对DLC 膜的结构、形貌及其光、电性能有重要的影响。分析了影响机制,探讨了 DLC 膜的生长机理。
- 王维洁王天民韩培刚罗崇泰黄良甫刘定权
- 关键词：离子束溅射淀积DLC膜
- 双离子束溅射淀积DLC膜的红外特性被引量：2
- 1990年
- 用双离子束溅射法在50℃以下的玻璃基片上淀积了类金刚石碳(DLC)膜.研究了轰击离子能量、轰击离子束流密度及轰击源内氢/氩流量比例对淀积片红外透射特性的影响.所用波段是1.5～5.5μm.结果表明,对所有淀积样片,其相对透过率均随波长增长而增大.在每组实验中,随如上各可变参量的增大,各样片的相对透过率～波长曲线均有先上升后下降的规律.确定了各组相应的临界参数.结果还表明,轰击源不含氢并不影响DLC膜的制取,但轰击源合氢时所制得的膜具有更好的红外透射性.从结构变化的角度解释了上述规律.
- 王维洁刘贵昂王天民黄良甫罗崇泰刘定权徐明杨一民
- 关键词：DLC膜红外特性
- 类金刚石碳膜在大气热退火过程中的稳定性被引量：1
- 1994年
- 本文对双离子束溅射淀积法制备的类金刚石碳膜进行了大气中的热退火研究。退火温度３００℃，时间分别为１．５ｈ和３．Ｏｈ．对退火前后的样品分别作了红外透射谱、Ｒａｍａｎ光谱和电阻率的测量，并在退火过程中对膜层电阻率进行了即位测量，结果表明，３００℃的退火并不能使膜层中的Ｃ—Ｈ键断裂，而使膜层结构趋于完整，膜层氧化变薄，其电阻率和红外透过率增高；但退火对膜的影响程度只与退火温度有关，而与退火时间无关。还观察到退火后膜层电阻性能的时效现象，并作了初步的解释。
- 王维洁陈智颖王天民
- 关键词：退火稳定性类金刚石碳膜
- DLC膜高能C^+束辐照效应的初步研究
- 1992年
- 用114keV的C^+束,在2×10^(16)ions/cm^2和1×10^(17)ions/cm^2两种剂量下对双离子束溅射淀积DLC膜(即类金刚石碳膜)进行了辐照。基片为玻璃。辐照过程中基片温度低于80℃。用红外透射光谱、Raman光谱及其拟合以及电阻率测量等手段对膜层进行了表征。结果表明,原淀积膜含有SP^3 C-C、SP^2 C-C、SP^3 C-H及SP^2 C-H等键,并且键角是无序化的。随C^+辐照,膜中SP^3 C-H键相对减少,SP^2 C-H键相对增多;同时,膜中键角无序化程度降低,结晶化程度增强,微晶在数量及尺寸上增大。这些结构上的变化导致了辐照膜层电阻率和红外透过率相对于原膜层大幅度的下降。
- 王维洁韩培刚王天民黄良甫刘定权
- 关键词：碳DLC膜辐照
