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王海霞

作品数：3 被引量：1H指数：1
供职机构：同济大学更多>>
发文基金：国家自然科学基金更多>>
相关领域：理学机械工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇专利
  • 1篇期刊文章

领域

  • 1篇机械工程
  • 1篇理学

主题

  • 3篇直流磁控
  • 3篇直流磁控溅射
  • 3篇溅射
  • 3篇磁控
  • 3篇磁控溅射
  • 2篇单层膜
  • 2篇阻抗式
  • 2篇量热
  • 2篇量热计
  • 2篇化学危害
  • 2篇激光
  • 1篇多层膜
  • 1篇应力
  • 1篇应力和
  • 1篇软X射线
  • 1篇热稳定
  • 1篇热稳定性
  • 1篇热稳定性研究
  • 1篇MO

机构

  • 3篇同济大学

作者

  • 3篇张众
  • 3篇王海霞
  • 2篇梁玉
  • 1篇王占山
  • 1篇连玉红
  • 1篇徐德超
  • 1篇朱杰

传媒

  • 1篇强激光与粒子...

年份

  • 2篇2015
  • 1篇2013
共 3 条 记 录，以下是 1-3
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排序方式：
基于激光刻蚀方法的阻抗式镍薄膜量热计及其制作方法
本发明涉及一种基于激光刻蚀方法的阻抗式镍薄膜量热计及其制作方法，该薄膜量热计包括基底和镀制在基底上的镍单层膜，首先对基底进行清洗，然后采用直流磁控溅射方法在基底上镀制镍单层膜，最后用激光刻蚀的方法在镍单层膜上刻蚀出图案。...
张众梁玉王海霞
文献传递
基于激光刻蚀方法的阻抗式镍薄膜量热计及其制作方法
本发明涉及一种基于激光刻蚀方法的阻抗式镍薄膜量热计及其制作方法，该薄膜量热计包括基底和镀制在基底上的镍单层膜，首先对基底进行清洗，然后采用直流磁控溅射方法在基底上镀制镍单层膜，最后用激光刻蚀的方法在镍单层膜上刻蚀出图案。...
张众梁玉王海霞
文献传递
软X射线Mo/B_4C多层膜应力和热稳定性研究被引量：1
2015年
为了实现7nm波段Mo/B4C多层膜反射镜元件的制备,研究了不同退火方式对Mo/B4C多层膜应力和热稳定性的影响。首先,采用直流磁控溅射方法分别基于石英和硅基板制作Mo/B4C多层膜样品,设计周期为3.58nm、周期数为60,Mo膜层厚度与周期的比值为0.4。其次,采用不同的退火方式对所制作的样品进行退火实验,最高退火温度500℃。最后,分别采用X射线掠入射反射、X射线散射和光学干涉仪的方法对退火前后的Mo/B4C多层膜的周期、界面粗糙度和应力进行测试。测试结果表明采用真空退火方式能够有效降低Mo/B4C多层膜的应力,且退火前后Mo/B4C多层膜的周期和界面粗糙度无明显变化,证明Mo/B4C多层膜在500℃以内具有很好的热稳定性。
徐德超王海霞张众朱杰连玉红王占山
关键词：软X射线直流磁控溅射应力热稳定性
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