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冯欢

作品数:4 被引量:6H指数:1
供职机构:盐城工学院机械工程学院更多>>
发文基金:江苏省自然科学基金江苏省高校科研成果产业化推进项目江苏省“青蓝工程”基金更多>>
相关领域:机械工程金属学及工艺交通运输工程更多>>

文献类型

  • 3篇期刊文章
  • 1篇专利

领域

  • 2篇机械工程
  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇交通运输工程

主题

  • 2篇自动复位
  • 2篇蓝宝
  • 2篇蓝宝石
  • 2篇蓝宝石衬底
  • 2篇复位
  • 2篇衬底
  • 1篇单片
  • 1篇单片机
  • 1篇单片机控制
  • 1篇氧化剂
  • 1篇湿法清洗
  • 1篇脱钩
  • 1篇气缸
  • 1篇气缸压力
  • 1篇全自动
  • 1篇化学机械抛光
  • 1篇活性剂
  • 1篇机械抛光
  • 1篇机械装置
  • 1篇分散控制

机构

  • 4篇盐城工学院
  • 2篇江苏大学
  • 1篇常州大学
  • 1篇安徽华菱汽车...

作者

  • 4篇冯欢
  • 3篇周海
  • 2篇吴春彪
  • 1篇赵旋
  • 1篇黄传锦
  • 1篇吴欢欢
  • 1篇蒋立新
  • 1篇张圆
  • 1篇高翔
  • 1篇胡腾宇
  • 1篇陈彩红
  • 1篇卓志国
  • 1篇崔志翔

传媒

  • 1篇制造业自动化
  • 1篇机械设计与制...
  • 1篇机械工程与自...

年份

  • 1篇2015
  • 2篇2014
  • 1篇2013
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
一种全自动快速脱缆装置
本装置由电气和机械部分组成,电气部分由传感器负责检测缆绳拉力,单片机负责分析处理数据,实现对机械装置的控制;机械装置由采用两级杠杆原理部件和气缸等组成,实现脱钩和复位等机械动作。本作品对传统脱缆装置进行改进,包括:1)采...
蒋立新陈彩红吴春彪胡腾宇单龙君吴欢欢赵旋冯欢
文献传递
LED用蓝宝石衬底抛光后湿法清洗研究被引量:1
2014年
LED被认为是下一代主要照明工具,其以高质量的衬底基片外延GaN层,目前主要用化学机械抛光后的蓝宝石晶片作为衬底,但抛光后的衬底表面布满杂质,这些杂质会导致外延层缺陷,降低发光率甚至使器件失效。探讨了在蓝宝石衬底清洗过程中,HF、表面活性剂、氧化剂的作用。得出HF溶液对衬底表面的SiO2颗粒有很好的清除效果,不会造成蓝宝石衬底表面质量恶化,表面活性剂可以形成覆盖层降低衬底表面能,同时防止被去除杂质的再次附着,强氧化剂可以腐蚀衬底表面去除附着力较强的颗粒。在试验中通过不同清洗顺序发现表面活性剂形成的覆盖层也会对杂质产生保护作用。在使用表面活性剂后再使用HF溶液清洗,衬底表面颗粒数从18降为10,但表面存在腐蚀坑样的污染,在以表面活性剂、浓硫酸、HF溶液的清洗顺序清洗后发现表面颗粒数从20降至8,没有腐蚀坑样的污染存在,因此采用表面活性剂、浓硫酸、HF溶液的清洗顺序可以得到好的效果。
卓志国周海施建国冯欢
关键词:HF氧化剂表面活性剂湿法清洗蓝宝石衬底
全自动快速脱缆装置的设计
2015年
全自动快速脱缆装置由机械部分和控制部分组成,控制系统中的传感器时刻检测缆绳中拉力并传递至单片机,经单片机分析处理,实现对机械装置的自动控制;机械装置由采用两级杠杆原理所设计的机构和气动执行机构等组成,实现脱钩和复位等机械动作。实验结果表明:该装置的动作响应时间为0.5s,实际触发拉力误差为±0.1%;装置操作简单,工作快速安全,能实现智能化全自动控制,灵活度高。全自动快速脱缆装置能减轻操作人员的劳动强度,提高工作效率。
周海吴春彪张圆冯欢
关键词:自动复位
蓝宝石衬底化学机械抛光中材料去除特性的研究被引量:5
2014年
衬底基片的化学机械抛光(CMP)同时兼顾材料去除率及衬底表面质量,在抛光过程中,化学作用与机械作用相辅相成同时参与抛光,化学作用与机械作用的平衡对能否得到满意的衬底表面有重要有意义。针对蓝宝石衬底基片的CMP材料去除率进行了研究,分析了材料去除机理。使用单因素实验法测得:压力的增加会导致材料去除率的增加,但当压力增加到某一点后,材料去除率的增加反而减缓,与此同时衬底基片表面粗糙度达到最小。这一点附近的抛光参数可以达到机械与化学作用的平衡。在实验中,当抛光压力为6kg时材料去除率达到80nm/min,表面粗糙度达到0.2nm。
高翔周海黄传锦冯欢崔志翔
关键词:蓝宝石衬底CMP材料去除率
共1页<1>
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